關于專利申請的十大誤區(qū)，你必須知道！
美國專利界有句名言：“凡是太陽底下的新東西都可以申請專利。”這也告訴人們，只要是由人發(fā)明創(chuàng)造出來的新事物，都可以拿來申請專利。但是現(xiàn)實生活中有不少發(fā)明家，認為既然自己發(fā)明了新產(chǎn)品，申請專利只不過是走個形式而已，只要簡單填寫資料，就能申請成功。其實這樣的觀念是錯誤的，申請專利的過程存在著許多誤區(qū)，一不小心就會中招。
下面小七就給大家羅列出專利申請的十大誤區(qū)，大家可都要擦亮眼睛好好看看，千萬不要被這些誤區(qū)給坑了！
誤區(qū)一、自主研發(fā)成果不申請專利就有知識產(chǎn)權
不少人認為，只要是自主研發(fā)的創(chuàng)新成果，就擁有了自主知識產(chǎn)權。而事實上是，自主研發(fā)的技術成果如果不申請專利，就無法得到法律的確認和保護。
在我國，對于專利申請采取“先申請原則”，兩個以上的人就同一發(fā)明分別提出申請時，不問其作出該項發(fā)明的時間的先后，而按提出專利申請時間的先后為準，即把專利權授予最先提出申請的人。
因此，若是發(fā)明人沒有對創(chuàng)新成果及時申請專利，卻被他人搶先申請并授予了專利權，那么發(fā)明人是無法追究他人的法律責任的。
誤區(qū)二、產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才去申請專利
不少人認為，等到產(chǎn)品投入到大規(guī)模生產(chǎn)之后，才是申請專利的好時機。其實到了這個時候，你再去申請專利，已經(jīng)晚了。哪怕僥幸獲得授權，專利也處在不穩(wěn)定的狀態(tài)之中。此時你若是發(fā)現(xiàn)他人侵權的現(xiàn)象，也會被侵權人以專利申請之日技術已經(jīng)被公開的理由反擊，還可能面臨錢財兩空的風險。
誤區(qū)三、改進過后的專利產(chǎn)品不需要再申請專利
有些技術人員認為，只要申請了專利，就后顧無憂了，哪怕之后改進了產(chǎn)品，也不需要再次申請。這樣的觀念是錯誤的。
改進過后的專利產(chǎn)品若不及時申請專利，當有其他人對此產(chǎn)品進行改進并申請了專利，那么原專利權人不僅無法對自己的產(chǎn)品更新?lián)Q代，還在不經(jīng)意間變成了侵權人，喪失了自己的知識產(chǎn)權。
誤區(qū)四、一項技術成果只能申請一項專利
一項技術成果只能申請一項專利？其實不然。我國專利法規(guī)定的專利類型有三類，分別是發(fā)明專利、實用新型專利、外觀設計專利。一項產(chǎn)品發(fā)明可同時申請多種專利，技術方案也可以同時申請實用新型以及發(fā)明專利。
一般說來，實用新型專利4-7個月左右可以授權，而發(fā)明專利則要1年多的時間。因此，若是發(fā)明人急于獲得專利授權，那么可以同時申請發(fā)明專利和實用新型專利。值得一提的是，可以同時申請實用新型和發(fā)明的發(fā)明創(chuàng)造，必定是與結構有關的創(chuàng)新。
誤區(qū)五、獲得了專利證書就獲得了有效的專利權
獲得了專利證書就獲得了有效的專利權，這是多數(shù)專利權人的普遍認識誤區(qū)。以外觀設計專利申請為例，在中國，外觀設計專利提出申請之后，按照專利法的規(guī)定，是不需要進行實質審查的。因此，即使之前有人就相同的技術方案申請過相同的專利，你的申請仍有很大的幾率被批準。
若是在專利有效期內(nèi)，沒有人對你的專利提出異議或是有人提出無效宣告但復審委員會經(jīng)過復審后維持了你的專利權，你的專利才是真正有效的專利。
誤區(qū)六、技術方案交代不清楚
不少發(fā)明人在提交專利申請文件時，對技術方案一筆帶過，或是以技術保密為由不肯透露更多的技術方案，導致技術方案公開不充分。事實證明，若是一件專利在申請時被審查員以技術方案公開不充分為由發(fā)出審查意見通知書，那么專利申請極大的概率被駁回。
誤區(qū)七、專利申請前不做任何檢索
不少人在專利申請各種資料報表都準備好了，卻懶于做查新檢索，這是十分不明智的。如果有人先前已經(jīng)就某一技術方案申請過專利或者在相關文獻中公開，你在沒有檢索的情況下也就這一技術方案申請專利，是不會有任何成效的。
誤區(qū)八、先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利
由于發(fā)表論文或者成果鑒定會向大眾公開技術內(nèi)容，會導致專利申請失去新穎性而得不到保護，因此小七不建議大家發(fā)布論文或成果鑒定后再申請專利。
誤區(qū)九、對專利缺乏有效的管理
現(xiàn)實生活中，企業(yè)申請了專利卻不好好管理，造成時間、精力、錢財損失的案例比比皆是。有的是專利文件之間互相沖突，有的是專利權已經(jīng)遭受侵犯但由于對專利特征不了解，不能及時提起訴訟。
誤區(qū)十、沒有長遠的專利戰(zhàn)略規(guī)劃
一個企業(yè)應該對自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認識。只有這樣，才能找到技術突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢，從而贏得更加廣闊的市場。因此，有計劃地實施專利戰(zhàn)略對于企業(yè)極其重要。
縱觀全文，大家是不是對專利申請的十大誤區(qū)有了清楚的認識了呢？大家若是還有什么疑問，都可以在文末留言給小七，小七會為你們盡情解答的~
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