隨著互聯網的發展，各種展現技術的平臺層出不窮，很多人在這些平臺上進行推廣或者展示自己的技術或者產品。殊不知，隨著展示方式的進行，這些技術或者產品也暴露在更多人的面前，一旦這些產品或者技術具有足夠的創新性，如果沒有及時申請專利，除了會引起他人優先申請之外，也會因為過早公開自己的技術或者產品，而喪失新穎性，失去專利授權的可能性。
某案中，A公司對“商用動漫游戲機”享有外觀設計專利的獨占實施權，B公司未經許可擅自制造、銷售該專利產品。一審認定B公司對A公司的侵權行為成立。然而，在二審中，B公司提交A公司參加展會的現場拍攝圖，證明該專利設計在其申請日之前已經公開為公眾所知悉，被訴侵權產品使用的設計屬于現有設計。
二審法院認定：從證據圖片所展示的背景環境及陳設布置，結合該用戶先發布了動漫參加展會邀請函，后又于展會開始當天發布了這些圖片，因此，B公司的證據已高度蓋然地證明本案專利產品已經在國際產業展中展示，該展會的時間早于本案專利的申請日，構成使用公開。對B公司的現有設計抗辯予以支持，無需承擔侵權責任。
可見，如果專利在展會上公開展示后，被惡意競爭者搶先制造、銷售，這將對真正的專利權人造成極大的損失。
因此，參與展會的企業應在參加展會之前對發明創造提出專利申請或者對已經在國外申請專利的展品再次在我國行使專利優先權來獲取專利保護。
參加展會是使用公開中的一種常見方式。使用公開，包括通過制造、銷售、使用、展覽等行為使產品處于公眾可以獲知的狀態。相對于出版物公開，使用公開也可稱為實施公開，即不是將有關技術通過“紙上談兵”的書面文字來公開，而是將技術通過實際的應用來公開。根據《專利審查指南》的規定，使用公開行為可以包括制造、銷售、使用、展覽等。
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